项目（成果）单位：

浙江中科院应用技术研究院

项目简介：

光刻机的原理是：利用光刻机发出的紫外光通过具有图形的掩膜版对涂有光刻胶的硅片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到硅片上，从而使硅片具有电子线路图的作用。

技术创新点：

接触式光刻机能适应2-4英寸多种基底的曝光；采用ULED灯珠，使用寿命长；高性能物镜确保微米分辨率和高曝光均匀性；进口精密运动台系统实现精确对准；高清全彩摄像机和高清显示屏，具备完美深焦及分辨率的无限矫正透镜；先进的自动定位系统，使系统易于操作和使用；滚珠型导轨，保证设备具有低摩擦、高精度的特点。